A special method to create gratings of variable line density by low voltage electron beam lithography
Microelectronic Engineering : an international journal of semiconductor manufacturing technology. Bd. 30. H. 1-4. Amsterdam: Elsevier Science 1996 S. 49 - 52
Erscheinungsjahr: 1996
ISBN/ISSN: 1873-5568
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1016/0167-9317(95)00192-1
| Geprüft | Bibliothek |
Autoren
Niemann, Bastian (Autor)
Schliebe, T. (Autor)
Plontke, R. (Autor)
Fortagne, Olaf (Autor)
Stolberg, I. (Autor)
Zierbock, M. (Autor)
Klassifikation
DDC Sachgruppe:
Physik
