Emission from a gas puff target irradiated with a Nd:YAG laser for EUV and x-ray lithography
Vladimirsky, Yuli (Hrsg). Proceedings of SPIE : Emerging Lithographic Technologies III. Bellingham, Wash.: SPIE : International Society for Optical Engineering 1999 400
Erscheinungsjahr: 1999
ISBN/ISSN: 9780819431509
Publikationstyp: Buchbeitrag (Konferenzbeitrag)
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1117/12.351112
| Geprüft | Bibliothek |
Inhaltszusammenfassung
15.-17. März 1999 in Santa Clara, CA ; Vol. 3676
Autoren
Fiedorowicz, Henryk (Autor)
Daido, Hiroyuki (Autor)
Bartnik, Andrzej (Autor)
Sakaya, Noriyuki (Autor)
Suzuki, Masayuki (Autor)
Kmetik, Viliam (Autor)
Szczurek, Miroslav (Autor)
Klassifikation
DFG Fachgebiet:
Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
DDC Sachgruppe:
Physik
