Actinic EUV-mask metrology : tools, concepts, components
Behringer, Uwe F.W. (Hrsg). Proceedings of SPIE : 27th European Mask and Lithography Conference. Bd. 7985. Dresden: SPIE 2011 79850B
Erscheinungsjahr: 2011
ISBN/ISSN: 978-0-8194-8553-3
Publikationstyp: Diverses (Konferenzbeitrag)
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1117/12.896266
| Geprüft | Bibliothek |
Autoren
Lebert, Rainer (Autor)
Farahzadi, Azadeh (Autor)
Diete, Wolfgang (Autor)
Schäfer, David (Autor)
Phiesel, Christoph (Autor)
Herbert, Stefan (Autor)
Maryasov, Aleksey (Autor)
Juschkin, Larissa (Autor)
Esser, Dominik (Autor)
Hoefer, Marco (Autor)
Hoffmann, Dieter (Autor)
Klassifikation
DFG Fachgebiet:
Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
DDC Sachgruppe:
Physik
