Nanofabrication of Optical Elements for SXR and EUV Applications : Ion Beam Lithography as a New Approach
McNulty, Ian ; Eyberger, Catherine ; Lai, Barry (Hrsg). The 10th International Conference on X-ray Microscopy : Chicago, Illinois, USA ; 15-20 August 2010. Melville, NY: American Institute of Physics 2011 S. 104 - 107
Erscheinungsjahr: 2011
ISBN/ISSN: 978-0-7354-0925-5
Publikationstyp: Buchbeitrag (Konferenzbeitrag)
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1063/1.3625315
| Geprüft | Bibliothek |
Inhaltszusammenfassung
Zeitschrift: AIP conference proceedings, Vol. 1365 (ISSN 0094-243X)
Klassifikation
DFG Fachgebiet:
Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
DDC Sachgruppe:
Physik
