A Subtractive Photoresist Platform for Micro‐ and Macroscopic 3D Printed Structures
Advanced Functional Materials. Bd. 28. H. 29. Wiley 2018
Erscheinungsjahr: 2018
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1002/adfm.201801405
Autoren
Zieger, Markus M. (Autor)
Müller, Patrick (Autor)
Blasco, Eva (Autor)
Petit, Charlotte (Autor)
Hahn, Vincent (Autor)
Michalek, Lukas (Autor)
Wegener, Martin (Autor)
Barner‐Kowollik, Christopher (Autor)
Klassifikation
DDC Sachgruppe:
Chemie
Verknüpfte Personen
- Hatice Mutlu
- Programmbereichsleiterin Polymerchemie
(Leibniz-Institut für Verbundwerkstoffe GmbH (IVW) (RPTU in Kaiserslautern))