Deep dry etching of GaAs and GaSb using Cl2/Ar-plasma discharges
Journal of Vaccum Science & Technology B. Bd. Volume 21. H. Issue 6. 2003 S. 2393 - 2397
Erscheinungsjahr: 2003
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
Sprache: Englisch
Autoren
Fouckhardt, Henning (Beteiligte Person)
Giehl, Alexander R. (Autor)
Gumbel, Michael (Autor)
Kessler, Matthias (Autor)
Herhammer, Norbert (Autor)
Hoffmann, Goetz (Autor)
Fouckhardt, Henning (Autor)
Klassifikation
DDC Sachgruppe:
Allgemeines, Wissenschaft
