Deep fused silica wet etching using an Au-free and stress-reduced sputter-deposited Cr hard mask
Journal of micromechanics and microengineering. structures, devices and systems. Bd. 15. H. 11. Bristol: IOP Publ. 2005 S. 2130 - 2135
Erscheinungsjahr: 2005
ISBN/ISSN: 0960-1317
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
| Geprüft: | Bibliothek |
Autoren
Steingoetter, Ingo (Autor)
Fouckhardt, Henning (Autor)
