Deep reactive ion etching of GaSb in Cl2-Ar-plasma discharges using single-layer soft mask technologies
Journal of micromechanics and microengineering. structures, devices and systems. Bd. 13. H. 2. Bristol: IOP Publ. 2003 S. 238 - 245
Erscheinungsjahr: 2003
ISBN/ISSN: 0960-1317
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
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Autoren
Giehl, Alexander R. (Autor)
Kessler, Matthias (Autor)
Grosse, Axel (Autor)
Herhammer, Norbert (Autor)
Fouckhardt, Henning (Autor)
