Influence of gas supply and filament geometry on the large-area deposition of amorphous silicon by hot-wire CVD
Thin Solid Films. Bd. 395. H. 1-2. Elsevier BV 2001 S. 61 - 65
Erscheinungsjahr: 2001
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1016/s0040-6090(01)01208-1
| Geprüft: | Bibliothek |
Autoren
Ledermann, Andrea (Autor)
Mukherjee, Chandrachur (Autor)
Schroeder, Bernd (Autor)
Klassifikation
DDC Sachgruppe:
Ingenieurwissenschaften
