Two-photon lithography and nanoprocessing with picojoule extreme ultrashort 12 femtosecond laser pulses
SPIE Proceedings. Bd. 7584. San Francisco, California, United States: SPIE 2010 S. 75840
Erscheinungsjahr: 2010
Publikationstyp: Diverses
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1117/12.841993
Autoren
König, Karsten (Autor)
Uchugonova, Aisada (Autor)
Schug, Michael (Autor)
Zhang, Huijing (Autor)
Saremi, Sumarie (Autor)
Seidel, Helmut (Autor)
Klassifikation
DFG Fachgebiet:
4.42 - Elektrotechnik und Informationstechnik
DDC Sachgruppe:
Ingenieurwissenschaften
