Solid-phase epitaxy of silicon amorphized by implantation of the alkali elements rubidium and cesium
AIP Conference Proceedings. Valladolid, Spain: AIP 2012 S. 276 - 279
Erscheinungsjahr: 2012
Publikationstyp: Diverses
Sprache: Englisch
Doi/URN: 10.1063/1.4766542
Autoren
Maier, R. (Autor)
Häublein, V. (Autor)
Ryssel, H. (Autor)
Völlm, H. (Autor)
Seidel, H. (Autor)
Frey, L. (Autor)
Klassifikation
DFG Fachgebiet:
4.42 - Elektrotechnik und Informationstechnik
DDC Sachgruppe:
Ingenieurwissenschaften
